荷兰进一步扩大光刻机管制范围，中方不满：荷方应尊重市场原则和契约精神

【环球时报特约记者 文简】针对荷兰6日宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制，中国商务部新闻发言人8日表示，荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中方对此表示不满。

荷兰半导体设备制造商阿斯麦日前表示，荷兰政府此次管制适用于其NXT:1970i和1980i 浸润式DUV（深紫外）光刻系统。美媒称，在荷兰宣布新决定的前一天，美国公布更新的出口规则，收紧对量子计算和半导体制造设备等关键技术的出口管制。荷兰更新的相关条款中采用了美国的措辞。在美国的压力下，荷兰政府不允许阿斯麦向中国客户出口其最先进的EUV（极紫外）设备，并从2023年9月开始限制NXT:2000系列及更好的DUV设备出口。2023年10月，美国单方面开始限制1970i和1980i的出货。路透社称，荷兰的新规则与美国去年单方面的出口限制保持一致。

资料图：阿斯麦(ASML)标志

对此，中国商务部发言人表示，中方注意到相关情况。近来，中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上，进一步扩大对光刻机的管制范围，中方对此表示不满。近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施，严重威胁全球半导体产业链供应链稳定，严重损害相关国家和企业正当权益，中方对此坚决反对。

发言人还说，荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发，尊重市场原则和契约精神，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展，不滥用出口管制措施，切实维护中荷企业和双方共同利益，维护全球半导体产业链供应链稳定。

来源：环球时报